بررسی اثرات دانسیته‌جریان و دمای حمام آبکاری پالسی بر نانوساختار پوشش دی‌اکسید‌سرب روی زیرلایه تیتانیمی

در این تحقیق پوشش الکتروکاتالیتیک دی‌اکسید‌سرب روی زیرلایه Ti/SnO2 با استفاده از تکنیک‌های آبکاری جریان مستقیم و آبکاری جریان پالسی از حمام نیترات سرب بدست آمد. به منظور ایجاد پوششی با بیشترین زبری سطح،کوچک‌ترین توزیع اندازه کریستال و سطح‌ ویژه بالا، متغیرهای آزمایشگاهی مانند دانسیته جریان و دمای حمام آبکاری پالسی مورد بررسی قرار گرفته است. نمونه‌ها پس از پوشش‌دهی با استفاده از SEM، زبری‌سنجی و ولتامتری چرخه‌ای مورد بررسی قرار گرفتند. نتایج بررسی‌ها نشان داد که شرایط بهینه دما و دانسیته جریان در این تحقیق برابر است با °C 65 و mAcm-233. مورفولوژی پوشش دی‌اکسید‌سرب تولیدی در این شرایط حاوی نانو پولک‌های با ضخامتی در محدوده 45 تا nm 85 و طولی در محدوده 75/0تا mµ10 است. تصاویر STM پوشش دی‌اکسید‌سرب تولید شده در این شرایط نیز وجود نانوذرات دی‌اکسید‌سرب با قطر متوسطی در محدوده 7 تاnm  21 را روی پولک‌ها تأیید می‌کند.